紫外臭氧清洗機(jī)燈管

紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外臭氧清洗燈、紫外光清洗燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈,UV光清洗燈，UV清洗燈長(zhǎng)期供應(yīng)用于處理ITO,FTO，光學(xué)玻璃，半導(dǎo)體，硅片，金屬，陶瓷，聚合物等基片表面的有機(jī)物，可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性，在襯底涂層或者鍍膜，基片鍵合等方面有廣泛應(yīng)用。

低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm和185nm的紫外光，這兩種波長(zhǎng)的光子能量可以直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí)，185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。

應(yīng)用領(lǐng)域

■在進(jìn)行薄膜沉積之前先進(jìn)行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。

■清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽能面板，冷軋鋼，慣性引導(dǎo)零件和 GaAs芯片

■清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器

■蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機(jī)材料   

■增強(qiáng)GaAs 和Si氧化物鈍化表面

■增強(qiáng)玻璃的除氣作用

■基片藍(lán)膜去除

■增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性

■基片終測(cè)后墨跡清楚

■去除光刻膠

■平板顯示器/液晶顯示器

■去除光刻機(jī)臺(tái)上的光刻膠殘留物

■在電路板封裝和打片之前清洗）

■光纖

■增強(qiáng)表面親水特性

■為生物科學(xué)應(yīng)用做清洗和消毒

■光學(xué)透鏡

■其它應(yīng)用